化合物、パターン形成用基板、光分解性カップリング剤、パターン形成方法及びトランジスタの製造方法

2022.10.17 By 神奈川大学

材料工学

技術概要

フォトレジストに代わり、大気圧下でマイクロパターンニングするための光分解性カップリング剤、パターニング方法

用途・応用

プリンタブルエレクトロニクス

背景

 近年、半導体素子、集積回路、有機ELディスプレイ用デバイス等の微細デバイス等の製造において、基板上に、表面特性の異なるパターンを形成し、その表面特性の違いを利用して微細デバイスを作成する方法が提案されている。
 基板上の表面特性の違いを利用したパターン形成方法としては、たとえば、基板上に親水領域と撥水領域とを形成し、機能性材料の水溶液を親水領域に塗布する方法がある。この方法は、親水領域でのみ機能性材料の水溶液が濡れ広がるため、機能性材料の薄膜パターンが形成できる。
 基板上に親水領域と撥水領域とを形成させることができる材料として、例えば、特許文献1には、光照射の前後で接触角を変化させることができる含フッ素化合物が記載されている。しかしながら、環境残留性の観点から、フッ素を含有しない材料が望まれている。

【先行技術文献】
【特許文献】
【特許文献1】特許第4997765号公報

問い合わせ・詳細資料閲覧

特許情報詳細や資料のダウンロード等については無料会員登録後に閲覧していただけます。

本研究に関するご質問や、話を聞いてみたいなどご興味をお持ちになりましたら、是非お気軽に以下のフォームにお問い合わせください。

特許情報

特開2019-073495

JPA 2019073495-000000